Ако се удахне 3-амино-5-меркапто-1,2, 4-триазол, преместите пацијента на свеж ваздух; у случају контакта са кожом, скините контаминирану одећу и темељито оперите кожу сапуницом и водом. Ако се осећате нелагодно, потражите савет лекара; ако имате контакт очима, одвојите капке, исперите их текућом водом или физиолошким раствором и одмах потражите лекарски савет; ако се прогута, одмах испрати грло, не изазивати повраћање и одмах потражити лекарски савет.

Користи се за припрему раствора за чишћење фоторезиста

У уобичајеном процесу производње ЛЕД-а и полупроводника, маска фотоотпора се формира на површини неких материјала, а узорак се преноси након излагања. Након добијања потребног узорка, преостали фотоотпор треба уклонити пре следећег поступка. У овом процесу потребно је потпуно уклонити непотребни фотоотпор без корозије било које подлоге. Тренутно се раствор за чишћење фотоотпорника углавном састоји од поларног органског растварача, јаке алкалије и / или воде итд. Фотоотпор са полупроводничке плочице може се уклонити потапањем полупроводничког чипа у течност за чишћење или прањем полупроводничког чипа течношћу за чишћење .

Развијена је нова врста решења за чишћење фотоотпорника, која је неводени детерџент са малим нагризањем. Садржи: алкохол амин, 3-амино-5-меркапто-1,2,4-триазол и растварач. Ова врста решења за чишћење фотоотпорника може се користити за уклањање фотоотпорности са ЛЕД-а и полупроводника. Истовремено, нема напад на подлогу, попут металног алуминијума. Штавише, систем има снажну водонепропусност и проширује оперативни прозор. Има добру перспективу за примену на пољу чишћења ЛЕД и полупроводничких чипова.